作为一名从事相关专业的博士生，张明杰也清楚，其实国内对DUV光刻机的研究，也算比较深了。
各种设计图，不说全套，但差不多他也都见过。
即便EUV技术，虽然有阿斯麦的技术限制，但国内其实也大致摸清了一些参数的。
当然，摸清是一回事。
要制造出来，量产商用，那又是另外一回事。
更何况还是大致摸清？
且不提这中间存在大量需要攻克的技术难题，光是西方的专利壁垒就明显很难绕过。
这个问题相当的棘手。
光是张明杰知道的。
所里好几个大牛的项目组，都在研究绕过专利的方法。
只可惜那么长时间过去了，也没听到有什么消息。
而现在摆在眼前的这张设计图。
却让他来兴趣了。
单单从图纸上面标明的各项参数来看。
明显和阿斯麦的EUV不太一样。
但身为作风严谨的科研工作者，张明杰不会因为一张图纸就认为对方手握EUV光刻技术。
说不定这是改款的DUV呢？
而且纯从常理来看，光刻机作为当下的大热门项目，那么多专家教授都在努力研究，各种技术路线几乎都被探讨过。
怎么可能突然冒出来一条新设计？
新思路？
想想也知道不可能。
张明杰觉得，要么是许一秋被其他人给骗了，以为那真的是全新的EUV设计图，要么他纯粹就是以光刻机为噱头进行炒作。
嗯！
大概率是在炒作博取名气。
“只可惜他忽悠得了外行人，忽悠不了内行啊。”
张明杰摇摇头，放下筷子就准备反驳。
然而，这时候许一秋又拿出了一张全新的设计图，钉在黑板上，开始讲解起来。
看到这张设计图后。
张明杰的目光逐渐凝住了。
“不对，这是实验参数？”
“还有进一步的理论分析？”